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中国半导体科技获得突破,国产蚀刻机突破5nm技术!
今年,我国手机行业有了飞跃的发展,但却被国人吐槽,原因就是,虽然我国国产手机全球销量第一,但国产化和芯片技术还没有达到国际领先。现在的芯片已经达到7nm技术,想生产7nm芯片就需要高端的光刻机和蚀刻机,而高端光刻机现在一直被荷兰的一家公司垄断,但在蚀刻机上我国已经攻克5nm技术。
关于光刻机和蚀刻机的区别,简单来讲,光刻机是把芯片的设计图案印上去,然后在通过刻蚀机进行刻蚀,并且光刻机要比刻蚀机研制难度大。目前我国光刻机和蚀刻机发展属于严重的偏科,因为我国半导体行业7nm蚀刻机已经实现量产,但是在光刻机技术上,离7nm技术还相差甚远。
虽然荷兰的ASML几乎垄断了全球高端光刻机,但它的光刻机并非完全国产,荷兰研制的7nm光刻机光源是来自美国,而镜头是进口德国,技术来自英国,并且由韩国组装。
也是因为它把全球顶尖集合于一身,所以荷兰才可以垄断全球高端的光刻机市场,而由于各种原因,我国只能自己摸索通过自己的努力进行追赶。在半导体行业,我国刻蚀机已经实现商业化,早在28nm就已经和台积电合作。据报道2019年,台积电准备率先生产5nm制程的芯片,并且5nm的刻蚀机也通过了台积电的验收。